几乎所有涉及气体的电子处理都在需要精确控制工艺配方的腔室内进行。 例如,在退火过程中经常使用氧气和氢气与现有层反应,从而在现有薄膜的表面上形成新的氧化物或氢化物层。

但是,在工艺配方的某些部分,氧气会引起问题。 在这种情况下,消除大气对气相化学反应的污染成为当务之急。 这样就可以精确测量痕量O2的水平,这也可以用作检测腔室中大气泄漏的一种手段,这是必须监控和记录的关键工艺参数之一。 确切了解过程中的氧气含量将为您提供确保最高质量和产品性能所需的信息。

那就是我们可以提供帮助的地方。 我们的痕量O2高纯度分析仪具有快速响应的氧化锆传感器,测量范围为ppm到百分比或ppb到百分比氧气。 这些分析仪具有极快的响应速度和高精度,能够通过浓度的较大阶跃变化来测量O2,并在暴露于空气后数秒内测量O2的ppm浓度。

我们可以提供帮助的另一种方法是监测房间内的O2缺乏症。 氮气是电子制造中使用最广泛的气体。 尽管它可以用作处理气体,但更常用于惰化和吹扫,包括大量用于吹扫真空系统和减少废物的系统。 如果您情绪低落,所有N2都会导致不安全状况。

我们的氧气不足监测仪可以确保呼吸中的氧气含量安全,从而可以帮助您保护工人。 这些百分比的氧气分析仪将密切监视您的工作环境,以防止因暴露于不安全的呼吸空气而对健康造成危害。

我们非常了解您在测量关键过程参数时面临的挑战,以及实现您的质量和安全目标所需要采取的措施。 通过我们团队的专业知识,我们能够继续帮助企业更智能,更安全,更经济地运营。

无论您是需要更紧密地监控系统中的氧气含量,还是要确保呼吸空气的安全性来保护您的工作人员,您都可以依靠我们。

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